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成果名称 ---【 纳米金属多层膜的制膜设备及技术 】

详细信息】
成果简介 1.单层厚为纳米尺度的多层膜的制备是一项国际前沿技术。其装备和工艺皆非唾手可得。例如,1988年发现的纳米金属多层膜中的巨磁电阻效应。经过10年努力,已令计算机硬盘存储密度提高了一百倍。其中关键技术就是纳米多层膜的制备。 "八五"期间我们选此课题开展了预研,获得初步的成功。在中科院计财局装备处立项资助下,新一代"纳米金属多层膜磁控溅射设备"通过验收。几年来,我们相关的"纳米多层膜制备技术"日臻完善,从而使我们连续获得中科院和基金委的重大项目。与此同时,厂家也因此而获得很多订单,甚至出口新加坡。 2.建立了有自主知识产权的"纳米多层膜制备设备与技术"。 技术之一 :抽一次真空,可以制备多层膜样品一组16支。可控制样品的一个亚层厚度连续变化,最大变化幅度仅仅3纳米。即每支样品之间变化为3纳米/16。(自主专利) 技术之二:实现了膜基片水冷和磁化镀膜。 技术之三:DC/AC电磁兼容。(自主专利) 3.用我们设备和技术达到了: 国际先进:世界现存的20多种巨磁电阻多层膜中,有三种为我们首先制出并报道。(参看JMMM 1999年,第200卷评述文) 国内领先:有实用意义的自旋阀多层膜已制成。 4.1996年以来,按照我们的技术制成的金属多层膜制备设备已近10台。其中一台出口新加坡(2000年6月)。本设备也可用于纳米非金属多层膜的制备。 5.应用情况已为同行公认,但是无法做到有偿转让。
完成机构 中国科学院物理研究所
关键词 金属多层膜, 磁控溅射, 巨磁电阻
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